Sở Khoa học và Công nghệ Thành phố Hồ Chí Minh

View Original

Mã số N2175: Nguồn Plasma DaiPower® - Năng lượng mới cho thế giới xanh, bảo vệ môi trường

See this content in the original post

1.     Đặt vấn đề

Plasma lạnh được ứng dụng rộng rãi trong công nghệ cơ khí, xây dựng, y tế, nông thủy sản, môi trường như xử lý bề mặt, tiệt trùng hay xử lý nước thải, bảo quản rau củ quả,.... Tuy nhiên, các bộ nguồn plasma hiện nay ở áp suất thấp, nhiệt độ cao, vận hành rất phức tạp, tốn nhiều năng lượng, giá thành cao, không ổn định và tạo ra chùm plasma không đồng đều. Nguồn plasma lạnh, áp suất thấp được tạo ra nhờ việc nhận năng lượng vật chất từ bên ngoài như dòng bức xạ cao, điện trường lớn, tần số cao và đặt biệt ở áp suất rất thấp nên khó ứng dụng trực tiếp trong dây chuyền công nghiệp và chi phí cao rất cao. Ngày nay, có các nguồn plasma lạnh tạo ra trong môi trường áp suất thường như plasma arc, plasma jet hay plasma tần số cao,…cũng khó ứng dụng được bởi vì sự không đồng đều và không ổn định của chùm plasma. Các nguồn tạo plasma lạnh ở áp suất khí quyển chủ yếu nhập từ những nước phát triển nên không những chi phí rất cao mà còn bị rất hạn chế thông số điều khiển như điện áp, tần số, khí hỗ trợ, thể tích vùng plasma,…. Để làm chủ công nghệ, đơn giản hóa và tăng hiệu suất nguồn plasma đặc biệt là được ứng dụng rộng rãi cho các ngành nghề, hiệu quả cao và chi phí thấp, nguồn plasma DaiPower® được thiết kế và chế tạo. DaiPower® tạo plasma lạnh, ở áp suất khí quyển và đồng đều có thể thay đổi điện áp, tần số và thời gian phát xung đầu ra, ứng dụng trong công nghiệp như xử lý bề mặt vật liệu, xử lý môi trường, xử lý y tế. …

2.     Cấu tạo và hình dáng nguồn plasma DaiPower®

Hình dáng: Tùy ứng dụng cụ thể, hình dáng và công suất nguồn plasma được thiết kế tối ưu. Hiện nay, DaiPower® có hai dạng chính là dạng tủ điện kích thước 30x30x20mm Inox, 200-2000W và dạng DIY thích hợp với từng loại máy cụ thể.

3.     Nguyên lý hoạt động DaiPower®

Ø  Tạo điện áp cao, tần số lớn: Điện áp cao, tần số lớn được tạo ra khi cho nguồn 220V qua nguồn tạo plasma bao gồm biến áp, bộ chuyển đổi dòng điện AC/DC, bộ tạo xung cao tần, biến tần, biến áp cao tần và buồng plasma.

Ø  Ion hóa khí giữa hai điện cực: Dưới tác dụng của điện trường cao, tần số lớn giữa hai điện cực có ngăn cách chống phóng điện, khí bị ion hóa tạo ra môi trường plasma. Tùy vào ứng dụng, buồng plasma được thiết kế phù hợp.

Ø  Tùy chỉnh AI và IoT: Hiệu suất nguồn Plasma, nồng độ, thể tích và hình dáng plasma được tùy chỉnh tự động hoặc có lập trình trước nhờ lập trình nhúng AI và điều khiển từ xa qua IoT hoặc trực tiếp.

4.     Thông số kỹ thuật của nguồn plasma như sau:

-Sử dụng nguồn 220VAC, công suất 200-2000W

-Vùng plasma lên đến 100 cm vuông

-Tần số đầu ra 30KHz-70KHz

-Điện áp đầu ra 15KV-25 KV

-Kích thước 340 X 140 X 231 mm, nặng <10 Kg

5.     Ưu điểm của nguồn plasma DaiPower®

ü  Ứng dụng rộng rãi: DaiPower® là nguồn plasma hoàn toàn tự động AI, IoT, cho phép ứng dụng linh hoạt và thay thế nguồn plasma vào các loại máy móc như xử lý nước, khí và bề mặt đã có sẵn hay thiết kế mới.

ü  Dễ dàng lắp ráp, nhỏ gọn: DaiPower® plasma rất nhỏ gọn và có dãy điều khiển rộng nên dễ dàng được tích hợp trong mọi điều kiện không gian nhỏ hẹp và nhu cầu ứng dụng của các loại máy có sẵn trên thị trường.

ü  Thân thiện môi trường: DaiPower® plasma có nguyên lý vận hành tối ưu, đơn giản bảo vệ tối đa bức xạ và sinh nhiệt và vật liệu rất thân thiện môi trường nên an toàn, bảo vệ sức khỏe và tiết kiệm năng lượng.

ü  Độ tin cậy, an toàn cao: DaiPower® plasma sử dụng công nghệ hiện đại độc quyền, hệ thống được điều khiển tự động các tham số điều khiển có phản hồi kín kết hợp IoT và AI nên có độ an toàn, độ ổn định và độ tin cậy của quy trình ứng dụng rất cao.

ü  Hiệu quả cao: DaiPower® được nghiên cứu độc quyền công nghệ động lực học plasma với dãy điều khiển rộng, thể tích plasma lớn, đều và đậm đặc nên hiệu quả xử lý rất cao, xử lý được tốc độ cao, và ngay lập tức trong lúc yêu cầu hiệu suất thay đổi.

ü  Chi phí thấp: DaiPower® plasma có chi phí đầu tư ban đầu thấp và dễ thích hợp vào hệ thống hiện có. Đặc biệt chi phí sản xuất, vận hành, và bảo trì rất thấp và không ô nhiễm môi trường, theo dõi và điều khiển từ xa.

6.     DaiPower® sáng chế độc quyền

Các giải pháp của chúng tôi là phối hợp đồng bộ giữa nghiên cứu chuyên môn trong lĩnh vực cơ điện tử, vật lý, hóa học môi trường xử lý nước và phục vụ. Nguồn Plasma lạnh điện áp cao hơn 10KV, tần số cao hơn 45KHz được điều khiển bằng bộ vi xử lý, và IoT được nhiều trường đại học, viện nghiên cứu và ngành công nghệ cao ứng dụng để tạo ra vùng plasma đều ở áp suất thấp, không có nhiệt. Vùng plasma, khoảng cách đến bề mặt xử lý và năng lượng xử lý phụ thuộc vào tải, thiết kế của buồng plasma và cài đặt điện áp, tần số. Nói chung, tần số trong khoảng vài chục đến vài trăm Nano giây; khe hở từ 3 - 5 mm; diện tích vùng plasma 5-100m2. Buồng plasma hoặc điện cực cho tất cả các loại buồng plasma và cho tất cả các ứng dụng cũng được cung cấp.

1.     Nguồn plasma DaiPower® và công ngiệp phụ trợ   

Cung cấp nguồn plasma DaiPower®

CES Plasma cung cấp toàn diện nguồn plasma DIY cho các nhà máy sản xuất máy móc thiết bị dùng nguồn plasma và các trung tâm dịch vụ vận hành, bảo trì và sửa chữa máy có ứng dụng plasma. CES Plasma nhận thiết kế và chế tạo các bộ nguồn plasma theo yêu cầu khách hàng như trung tâm, viện nghiên cứu, cở sở giáo dục và nhà máy, khu công nghiệp. CES Plasma cũng cung cấp giải pháp, cho thuê máy, vận hành, bảo hành và bảo trì máy.

§   DaiPower® là nghiên cứu độc quyền về plasma với vi xử lý hiện đại, công nghệ xanh, nhỏ gọn, modun hóa thích hợp IoT và AI. DaiPower® thích hợp cho tất cả các loại ứng dụng, đặc biệt chú trọng hàng đầu vào máy móc ứng dụng công nghệ cao với tiêu chí an toàn, sức khỏe, bảo vệ môi trường.

l  Dịch vụ cho thuê nguồn plasma DaiPower®

CES Plasma cung cấp một phổ rộng các dịch vụ công nghiệp hỗ trợ công nghệ nguồn plasma tiên tiến nhất hiện nay. Ngoài ra chúng tôi còn phát triển nguồn riêng cho dự án cụ thể và cung cấp thiết bị xử lý. Với chuyên gia đầu ngành Plasma lạnh và đội ngũ kinh nghiệm nghiên cứu ứng dụng và liên ngành đa quốc gia nhóm CES Plasma sẵn sàng phục vụ quý khách hàng.

Tùy vào các nghiên cứu ứng dụng plasma, DaiPower@ plasma cung cấp các dịch vụ kỹ thuật để xác định tính phù hợp của nguồn plasma của chúng tôi đối với từng yêu cầu của khách hàng. Tùy vào từng ứng dụng, xử lý bề mặt, tiệt trùng không khí, xử lý môi trường...và tùy vào các khí làm việc, áp suất khí, các sản phẩm hóa học plasma, độ rộng khe hở, vật liệu điện cực, các chỉ số quan trọng của khách hàng đều sẽ được xem xét để tạo ra bộ nguồn tốt nhất đáp ứng nhu cầu và đặc điểm kỹ thuật của khách hàng.

2.     Ứng dụng nguồn DaiPower®

Công-Nông nghiệp: Plasma được ứng dụng hiệu quả và rộng rãi trong làm sạch và tăng hấp thụ bề mặt trước khi hoàn thành bề mặt. Phủ nano bề mặt cũng thành công lớn khi áp dung plasma. Xử khí khí, nước, tiệt trùng bảo quản và kích thích hạt giống cây trồng trong nuôi trồng và bảo quản nông nghiệp bằng plasma đã đánh dấu việc ứng dung công nghệ cao thành công trong nông nghiệp.

Môi trường-Thực phẩm: Ứng dụng plasma trong xử lý nước thải công nghiệp, y tế và làng nghề mang lại lợi ích đột phá. Plasma dùng xử lý nước nuôi trồng thủy sản, nước tiệt trùng rau củ quả và cả nước uống. Tiệt trùng không khí và làm sạch khí thải, mùi hôi thối và khí độc cũng được áp dụng bởi plasma. Làm sạch và bảo quản thực phẩm và rau củ quả đạt hiệu quả cao cũng nhờ công nghệ plasma.

Nghiên cứu-Giáo dục: Bắt nguồn từ yêu cầu ứng dụng Plasma trong nghiên cứu như hiện tượng ion hóa, điều kiện tạo plasma, nồng độ plasma, thể tích và hình dạng plasma cũng như động lực học plasma, điện trường, tần số và biên dạng sóng, CESPLASMA nhận thiết kế và chế tạo bộ nguồn theo nhu cầu ứng dụng của khách hàng. Trường đại học có nhu cầu nguồn plasma trong giáo dục xin liên hệ.

3.     Dự án đã hoàn thành và tham khảo

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý nước uống Daisuki

https://www.cesplasma.vn/daisuki

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý nước thải y tế

https://www.cesplasma.vn/yte

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý nước thải công nghiệp

https://www.cesplasma.vn/nuocthai

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý nước nuôi trồng thủy sản

https://www.cesplasma.vn/nuocnuoitrong

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý nước hồ bơi

https://www.cesplasma.vn/hoboi

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý tiệt trùng rau củ quả

https://www.cesplasma.vn/rauqua

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý khí thải

https://www.cesplasma.vn/khi

Nguồn plasma ứng dụng trong xử lý bề mặt vật liệu

https://www.cesplasma.vn/bemat

Nhận bằng khen Bộ khoa học Công nghệ và Đại diện Bộ khoa học công nghẹ ghé thăm

Thông tin

Tên tác giả: PGS.TS. Trần Ngọc Đảm


Đơn vị đồng hành

Đơn vị bảo trợ truyền thông